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経済
東京、6月6日(GGプレス)–日本政府は火曜日、大幅な税制優遇措置や財政出動を考慮して、半導体や蓄電池などの戦略的分野で設備投資を緩和し、工場を建設すると発表した。
この計画は、岸田文雄首相の主要目標である経済成長と富の再分配の好循環を生み出すための政府の行動計画を推進するための計画案に盛り込まれている。
政府は6月中旬までに最新の行動計画を採択することを目指している。 岸田氏は政府会合で「公的支出を含む奨励金を通じて民間部門の投資拡大を目指す」と述べた。
提言案では、米欧連携で人材を呼び込み、2020年代までに先端半導体の実用化を目指す設計・製造拠点の創設を盛り込んでいる。
その他の戦略分野には、遺伝子技術の利用や、生成人工知能の開発のための日本全国のデータセンターの分散化などが含まれます。
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